細径鋼管回転圧入機『RES-20CV-3』

PR軽量・コンパクトで、狭小地などでの地盤改良工事で活躍。低騒音も実現した…

細径鋼管回転圧入機『RES-20CV-3』は、横幅1450mm、重量3500kgの 軽量・コンパクトで、狭小地や高低差がある場所など 重機を搬入させるのが難しい現場で活躍します。 ハイブロ機構の採用により、低騒音での施工が可能。 センターホール式で、長尺の細径鋼管を任意の位置で掴んで打設できます。 機械メーカー・ワイビーエム社との共同開発で生まれたオリジナル製品です。 【特...

メーカー・取り扱い企業： 報国エンジニアリング株式会社

発電機能付き遊具『プレイネティック』＜ヨーロッパ発＞

PR遊ぶことで発電し、光や音の演出が可能。電源・電池は不要。シーソー、ブラ…

『プレイネティック』は、子どもが遊ぶことで電気エネルギーが生まれ、 光や音の演出も楽しむことができる、オランダ生まれの遊具です。 シーソーやブランコ、回転遊具など様々な製品をラインアップしています。 サステナブルな設計で、電源・電池は不要。 本製品を通して、環境や資源の大切さを伝えられます。 商業施設や公共施設などの遊具として、ぜひご活用ください。 【特長】 ■耐候性に優れ、...

メーカー・取り扱い企業： タカオ株式会社

【技術資料】真空紫外光を用いたポリマーの改質と照射雰囲気効果

真空紫外（VUV）光を用いた表面改質技術！改質効果の違いについて検討

高分子は軽量、フレキシブルなため、様々な用途で用いられており、近年 着目される手法に真空紫外（VUV）光を用いた表面改質技術があります。 VUV光は短波長で光子エネルギーが高いため、非熱過程で分子の結合を 切断することが可能。 物理的表面処理として代表的なプラズマ処理等と比べ、低コストかつ表面への ダメージが少なく、表面処理ができるという特長を持ちます。 本研究では、真空紫...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー

【技術資料】キセノンエキシマ真空紫外光ランプの高出力化

1～2kW／m2の光照度の実現！高出力化に必要な要素技術の検討

1980年代の終わり頃、エキシマ発光を利用した高輝度な真空紫外光 ランプが開発されました。 例えば、キセノンガスを用いたエキシマランプでは、波長172nmの 真空紫外光を、100W／m2という高い光照度で生み出すことができ、 材料表面の光分解洗浄や光表面改質などに盛んに応用が進んでいます。 本発表では、従来のランプより10～20倍明るい、1～2kW／m2の 光照度の実現を念頭に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー

【技術資料】真空紫外エキシマランプによる材料の光表面処理

光洗浄や光薄膜形成、光改質や光化学修飾など、様々な産業分野への応用が可…

真空紫外エキシマランプによる材料の光表面処理法には「安価」 「大面積処理が容易」などの特色があります。 その為、光洗浄や光薄膜形成、光改質や光化学修飾など、様々な 産業分野への応用が可能です。 当資料では、光表面処理法の効果を原子間力顕微鏡（AFM）を用いて 調べた結果をご紹介しております。 【掲載内容】 ■はじめに ■実験 ■結果 ※詳しくはPDF資料をご覧い...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー

【技術資料】真空紫外光照射によるゾル－ゲル薄膜の改質

紫外・可視光透過スペクトルを分光光度計により測定！ゾル－ゲル薄膜の改質…

均一な組成をもつコーティング膜を得る方法として有力なゾル－ゲル法は、 ゲル膜からの水分の除去や有機成分の分解には、通常、数百℃の熱処理を 要するため耐熱温度の低いプラスチック上に強固な膜を得るのは難しいです。 そこで、真空紫外（VUV）光を用いた光量子（フォトン）プロセスは、照射に よる熱過程をともなわずに、光子の作用のみで原子の結合を切断できるため、 薄膜の改質にも応用できると考え...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー

【技術資料】エキシマランプを用いた薄膜製造のプロセスの可能性

「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」を利用！光CVD法の製膜速度に…

金属や高分子材料の表面に薄膜を製膜することにより、材料表面の 機械的性質、熱的性質、化学的性質、電気的性質をコントロールする ことができます。 この表面改質に用いる薄膜の製膜方法には、真空蒸着法やPVD法、 プラズマCVD法など、様々な方法を採用。今後とも新たな製膜方法の 探索や開発が続けられていくものと考えられます。 そこで当資料では、「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー

【技術資料】真空紫外エキシマランプの現状とその産業的応用

非熱過程で分子の結合を切断することが可能！半導体関連分野での応用につい…

当資料では、「真空紫外エキシマランプ」の現状とその産業的応用について ご紹介しております。 エキシマとは励起状態の原子または分子1個と基底状態の原子または分子1個が 会合した二量体の総称。 「真空紫外エキシマランプ」は、準単色光、一般的なランプにない短波長の 光を発光できる、瞬時点灯点滅が可能、などの特長を有しています。 また、真空紫外光は短波長で光子エネルギーが高いため、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー

【技術資料】ポリビニルアルコール薄膜の表面改質

真空紫外エキシマランプを使用！ポリビニルアルコールの化学構造がどう変化…

真空紫外（VUV）光は、短波長で光子エネルギーが高いため、 非熱過程で分子の結合を切断することができ、洗浄や微細加工、 表面改質などへの応用が進められています。 当資料では、金蒸着した基板にPVA水溶液をスピンコート後、 加熱処理を行い、膜を作製し窒素あるいは乾燥空気雰囲気下で キセノンエキシマランプ（172nm）を照射。 赤外分光器ならびにX線光電子分光分析装置を用い、VUV...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー

【技術資料】湿式プロセスによるTiO2ゲル膜に対する光照射効果

薄膜形成プロセスの低温化に寄与！分解過程と結晶構造の変化について比較検…

耐熱温度の低いプラスチックなどの上に強固で緻密な膜を得るためには、 薄膜形成におけるプロセスの低温化が必要となります。 真空紫外（VUV）光を用いた光量子（フォトン）プロセスは、1光子あたりの エネルギーが、ほとんどの物質における原子の結合エネルギーよりも大きく なります。 また、照射による熱過程をともなわずに光子の作用のみで原子の結合を開裂 できるため、薄膜形成プロセスの低温...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー

【技術資料】ペルヒドロポリシラザンによるシリカ薄膜の形成

強い酸化作用を利用！照射条件を変えてVUV光を照射したときの膜質につい…

比較的低温の熱処理でシリカ膜を得る方法として、ペルヒドロポリシラザン等の セラミック前駆体ポリマーを大気中あるいは水蒸気中において450℃程度の温度で 焼成する方法が報告されています。 本研究は、TMOSやTEOSと異なりOを含まないPHPSを低温でシリカへ転化させるために、 酸素の活性種における強い酸化作用を利用することを目的としました。 そこで、薄膜形成時の照射雰囲気における...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー

【技術資料】真空紫外エキシマランプを用いたポリエチレンの表面改質

波長172nmの真空紫外光をポリエチレンシートに照射！表面の改質につい…

1980年代後半に、誘電体バリア放電を利用した強力な真空紫外光源である キセノンエキシマランプが開発されました。 この光源で得られる波長172nmの光は、7.2eVという高いエネルギーを持ち、 様々な分子内結合を効率よく光解離が可能。 このため、ランプは液晶表示パネルに使われるガラス基板の精密光洗浄などに 実用化されているのを始め、様々な応用展開が図られています。 本研究で...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー