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    株式会社オジックテクノロジーズ  『精密電鋳』 技術紹介

    試作から量産まで高度MEMS技術がサポートしています

    手法です。 写真製版(フォトリソグラフィ)技術によって作られた微細なパターンに、 高性能なめっき皮膜を精度良く形成します。 当社オリジナル商品NIPOLYNやめっきと組合わせ可能で、トレンチや ホールの埋め込みなどバリエーションが豊富にあります。 【特長】 ■200μm以上厚膜を製作可能 ■高硬度なニッケル皮膜を実現(>600Hv) ■低電着応力で残留応力が少ない電鋳皮...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社オジックテクノロジーズ

  • 200μm以上の厚膜を作製可能!オジックテクノロジーズの精密電鋳 製品画像

    200μm以上の厚膜を作製可能!オジックテクノロジーズの精密電鋳

    MEMSに欠かせない技術『精密電鋳』!当社の精密電鋳技術は所定の膜厚を…

    密電鋳技術は、エッチング手法などとは違い、高アスペクト比の微細パターンを忠実にネガティブ形状で転写し、所定の膜厚を高速で欠陥無く作製することが可能です。 L/S=50/50~200/600μmのトレンチとホールのTEGパターンで、4"Waferサイズまで試作可能です。 【主な特徴】 ■200μm以上の厚膜を作製可能 ■高硬度なニッケル皮膜を実現(>600Hv) ■低電着応力で残留応力...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社オジックテクノロジーズ

  • 試作から量産までを高度MEMS技術がサポート「精密電鋳」 製品画像

    試作から量産までを高度MEMS技術がサポート「精密電鋳」

    200μm以上の厚膜を作製可能 高硬度なニッケル皮膜を実現

    密電鋳技術は、エッチング手法などとは違い、高アスペクト比の微細パターンを忠実にネガティブ形状で転写し、所定の膜厚を高速で欠陥無く作製することが可能です。 L/S=50/50~200/600μmのトレンチとホールのTEGパターンで、4"Waferサイズまで試作可能です。 【主な特徴】 ■200μm以上の厚膜を作製可能 ■高硬度なニッケル皮膜を実現(>600Hv) ■低電着応力で残留応力...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社オジックテクノロジーズ

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