真空タイプの昇温脱離装置を取り扱っており、様々な分野で利用可能！
『昇温脱離分析法』は、古くは触媒分野で酸点・塩基点を
評価するために使用されてきた方法です。
一旦、触媒の温度を高温まで上昇させ吸着しているガスを除去し、
その後NH3やCO2を吸着。
その触媒を、再度プログラミングした条件で昇温させることでNH3やCO2を
再離脱させ、その脱離量から酸点・塩基点を評価します。
【利用分野】
■半導体分野において材料評価やプロセス設計支援
■各種薄膜(撥水、光学、対摩耗、光触媒)
■構造材料(ガラスファイバ、真空部品、セラミックス)
■吸蔵材料(水素吸蔵)など
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基本情報昇温脱離分析法
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