昇温脱離分析法

『昇温脱離分析法』は、古くは触媒分野で酸点・塩基点を
評価するために使用されてきた方法です。

一旦、触媒の温度を高温まで上昇させ吸着しているガスを除去し、
その後NH3やCO2を吸着。

その触媒を、再度プログラミングした条件で昇温させることでNH3やCO2を
再離脱させ、その脱離量から酸点・塩基点を評価します。

【利用分野】
■半導体分野において材料評価やプロセス設計支援
■各種薄膜(撥水、光学、対摩耗、光触媒)
■構造材料(ガラスファイバ、真空部品、セラミックス)
■吸蔵材料(水素吸蔵)など

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TDS装置の製造・販売だけではなく、受託測定も承っております。
長年TDS専業メーカーとして培ってきたノウハウを活かし、常時良好な状態に維持された装置と、熟練した専任オペレーターによってお客様の材料トラブルの解決に努めます。

【保有装置】
・赤外線加熱型 昇温脱離分析装置：2台
・高周波加熱型 昇温脱離分析装置：1台 （詳細を見る）