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最終更新日:2024/04/11

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掲載開始日:2024/04/11

◇◆◇ nanoPVD-S10A マグネトロンスパッタリング装置 ◇◆◇

nanoPVD_寸法:804(W) x 570(D) x 600(H)mm 本体重量:約70kg

  • nanoPVD_寸法:804(W) x 570(D) x 600(H)mm 本体重量:約70kg

研究開発用RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置です。
高性能・多機能にも関わらず、実験室の限られたスペースにもフィットするコンパクトサイズ、7inch前面タッチパネルによる簡単操作。
● 到達圧力 5x10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!)
● 膜均一性 ±3%
● 多彩なオプション:上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他
● 3源カソード + MFCx3系統、RF/DC電源追加し、多層膜・同時成膜など多目的に活用頂けます。
・絶縁膜
・導電性膜
・化合物、他

【主な特徴】
◉ 対応基板:2"(〜3源)、又は"(1源)
◉ 2"カソード x 最大3源
◉ タッチパネル簡単操作 PLC自動プログラム制御
◉ MFC高精度APCプロセス制御
◉ MFC 最大3系統
◉ USB端子付 Windows PC接続、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでライブデータロギング。
◉ 真空系:TMP + RP(*ドライポンプオプション)
◉ 基板回転・上下昇降・加熱(Max500℃)
◉ 水晶振動膜厚モニタ/コントローラ

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コンパクト・スモールフットプリント 高性能RF/DCマグネトロンスパッタリング装置

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取扱会社

テルモセラ・ジャパン株式会社

【営業品目】 1. CVD・PVD真空薄膜実験用超高温基板加熱ヒーター 2. 真空薄膜実験装置 3. 超高温実験炉 4. 赤外線放射温度計 5. 真空コンポーネント 6. カスタムメイド装置

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