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最終更新日:2011-09-07 10:26:09.0

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半田濡れ性に優れた無電解Ni-P置換Auめっき代替めっきプロセス

基本情報半田濡れ性に優れた無電解Ni-P置換Auめっき代替めっきプロセス

プリント基板に。無電解Ni-P/置換Auめっきプロセスとの代替が可能

「半田濡れ性に優れた無電解Ni-P/置換Auめっき 代替めっきプロセス」は、Auの代わりに特性の似ている4Agを用いためっきプロセスであるため、無電解Ni-P/置換Auめっきプロセスとの代替が可能です。半田濡れ性はめっき直後で、無電解Ni-P/置換Auめっきよりも良好です。

半田濡れ性に優れた無電解Ni-P置換Auめっき代替めっきプロセス

半田濡れ性に優れた無電解Ni-P置換Auめっき代替めっきプロセス 製品画像

「半田濡れ性に優れた無電解Ni-P/置換Auめっき 代替めっきプロセス」は、Auの代わりに特性の似ている4Agを用いためっきプロセスであるため、無電解Ni-P/置換Auめっきプロセスとの代替が可能です。半田濡れ性はめっき直後で、無電解Ni-P/置換Auめっきよりも良好です。詳しくお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。

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取扱会社 半田濡れ性に優れた無電解Ni-P置換Auめっき代替めっきプロセス

株式会社三協 本社工場

○フレキシブルプリント基板及びリジット基盤上の表面処理

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