地下乾式断熱二重壁『スタイロガルバ　フネン／SJ』

PR【地下/二重壁 】セメント板・ブロック塀と代替可能な地下二重壁。下地不…

『スタイロガルバ』は、地下空間の湧水対策用二重壁として意匠性、施工性、断熱性を兼ね備えたパネルです。 セメント板・コンクリートブロックの二重壁と代替でき、上下レールだけで自立し、 1枚で6mまで製作・設置が可能です。下地不要・パネルビス留め不要の施工方法の為、 工期短縮と省人施工を実現できます。 簡単かつスピーディな施工が実現するのに加えて、 芯材には高性能の断熱材を使用しており...

メーカー・取り扱い企業： スタイロ加工株式会社 東京営業部

熱間成形角形鋼管『スーパーホットコラム』

PRSN材と同等な材料特性を有すSHCスタンダード

『スーパーホットコラム』は、加熱・均熱後に鋼管に成形するため加工硬化が 起こらず、鋼管全断面が均一で、SN材と同等以上の材料特性を実現した 熱間成形角形鋼管です。 高品質な建物を経済的に設計することが可能であり、同時に地震時における 建築物の信頼性を高めることができます。 その特性が高く評価され、耐震性に優れた建築構造用鋼管として国土交通大臣に よる指定建築材料の認定を受け、科...

メーカー・取り扱い企業： ナカジマ鋼管株式会社

微細加工・研究開発・産業用高出力極短パルスレーザ　PHAROS

フェムト秒レーザの高出力化と高エネルギー化を同時に実現し、高繰返し動作…

優れたビーム品質、出射方向安定度と低ランニングコストにより微細加工、マイクロマシンニングに最適。 パルス幅・出力可変機能やパルス・オン・デマンド機能を搭載し、レーザ照射条件の変更が容易に行なえるので、アプリケーション開発や機器組込みに最適。またパルス繰返し周波数...

メーカー・取り扱い企業： フォトテクニカ株式会社

コンパクトウルトラファーストファイバーレーザ　FemtoLux3

コンパクトで堅牢、ターンキー簡単操作とモノリシック・オールインファイバ…

Hz時間領域分光等に最適なフェムト秒・ピコ秒ファイバーレーザであると共に、パルス幅が300fs ~5psまで可変でき、3μJのエネルギーが得られ、5MHzまでの高繰返し周波数が可能なので、各種の材料加工などの産業用・加工用にも最適なフェムト秒ファイバーレーザ。...

メーカー・取り扱い企業： フォトテクニカ株式会社

ワンボックス高出力フェムト秒レーザ　CARBIDE

発振器からアンプまで全てを単一の筐体に統合することを実現したユニボディ…

製造産業(家庭電化製品、ICチップ製造、ステント切断、表面機能化、次世代ディスプレイ工場、量子コンピュータ等)において、マイクロマシニングアプリケーション等の新しいソリューションを提供。 材料加工の拡張性：各種金属･セラミック･サファイア･ガラスの穴あけや切断、質量分析用の材料アブレーション、IC チップ製造等の内部加工、多層構造材料加工等各種の高精度な微細加工が実現可能 I-OPAは...

メーカー・取り扱い企業： フォトテクニカ株式会社

ダイオード励起産業用高出力ピコ秒レーザ　Atlantic

産業用の加工等に開発され操作が簡単で⻑時間メンテナンスフリーを実現し、…

⾼繰返し(kHz)にて⾼出⼒が得られるので、レーザアブレーションやマイクロマシニング等各種の⽤途に使⽤できる。 ■掘削・金属微粒子加工 ■切断 ■パターンニング（半導体・PCボード） ■表面マイクロ構造 ■アブレーション ■マイクロマシニング ■太陽光発電パネル ⽤途（UV） ■OLED の切断 ■サファイア...

メーカー・取り扱い企業： フォトテクニカ株式会社

産業用高出力ピコ秒レーザ　BLAZERシリーズ

パルス繰返しが高く、ピークパワーが高い産業用グレードDPSS ピコ秒レ…

堅牢で気密封止されたコンパクトな設計により、様々な産業用材料加工に利用可能。 ◆BLAZER-IR series 　 ●波長：1064nm　　 ●出力：1...

メーカー・取り扱い企業： フォトテクニカ株式会社

小型ＬＤ励起高エネルギーナノ秒YAGレーザ NL230

ＬＤ励起、高出力・高エネルギー(最大190mJ @1064nm) が得…

リー動作を実現 励起ダイオードの寿命は10億ショット以上と長寿命を実現。 フラッシュランプ放電音からも解放され、動作音も静かで静かな作業環境を提供。 NL230の高輝度パルスは、アブレーション加工、リモートセンシングやOPOの励起に最適。 ・最大190mJ @1064nm が得られ、パルス繰り返しも最大100Hz 可能。...

メーカー・取り扱い企業： フォトテクニカ株式会社

超高速・高解像度液晶空間光変調器SLM-1K_1024x1024

業界最速の応答時間1KHz@532nm、ビームステアリング、パルス整形…

力と同期が可能 【用途】 ◆ハイブリッド波面整形（STED 顕微鏡・マルチフォトン顕微鏡） ◆体積イメージング（ベッセルビーム） ◆パルス整形（CARS 顕微鏡、レーザマーキング、レーザ加工、レーザ通信） ◆HOT(Holographic Optical Tweezing)、光ピンセット、光操作・ビームステアリング(ホログラム等) ...

メーカー・取り扱い企業： フォトテクニカ株式会社

ノンコリニアタイプ光パラメトリック増幅器(ORPHEUS-N)

高出力極短パルスレーザ(PHAROS, CARBIDE)用ノンコリニア…

20～900nm (シグナル光), 260～450nm (シグナル光のSH） ●統合された第3高調波の効率：>25% (343nm) ●最大励起出力：8W ●励起パルスエネルギー：12～200μJ ●繰返し周波数：シングルパルス～1MHz ●圧縮後のパルス幅：<30fs (530～670nm), <80fs (670～900nm) 用途 ■時間分解分光 ■非線形光学 ■微細構造加工

メーカー・取り扱い企業： フォトテクニカ株式会社

Ybフェムト秒レーザ（オシレータのみ）FLINT

PHAROS シリーズのオシレータのみを自在に使用できるフェムト秒光源…

第二高調波(515nm)オプションを装着（HG-FLINT)でき自動切換え可能。時間分解分光、非線形光学、微細構造加工など幅広く使用可能。...

メーカー・取り扱い企業： フォトテクニカ株式会社