四重極質量分析計『TDS1200II』

高感度にリアルタイム検出できる四重極質量分析計！

S1200II』は、超高真空環境で試料を赤外線で加熱した際に、試料 から放出される成分を、四重極質量分析計(QMS)で、リアルタイム検出 する分析装置です。 本製品は、測定の効率化、分析チャンバの良質な超高真空環境維持のため に必須なロードロックを装備しており、分析チャンバ内の圧力を大気圧に してから試料をセットする必要がありません。 また、QMSの配置により、高感度を実現して...

メーカー・取り扱い企業： 電子科学株式会社

高周波加熱型 昇温脱離分析装置

マイナス温度からの水素分析！ ～1700℃の高温測定可能！

ロー式若しくはヘリウムガスクローズドサイクル式 　　　 　※液体窒素フロー式の場合、液体窒素自動供給装置及び液体窒素容器を付加することも可(オプション) ・加熱方式：高周波誘導加熱 試料加熱チャンバ 加熱源　高周波電源（周波数45kHz） (分析チャンバ) 　※電波法により総務省通信局に対する高周波利用設備設置の許可申請が必要です ・温度検出器：熱電対（試料表面接触）　及び　放射温度計（...

メーカー・取り扱い企業： 電子科学株式会社

PM2.5 パーティクルセンサ｜HPM シリーズ

優れた精度と長寿命を追求して設計されたHPMシリーズは、±15%以内の…

「HPMシリーズ」パーティクルセンサは、レーザ光散乱方式のパーティクルセンサで、周囲環境に存在する粒子を0 μg/m3 ～1,000 μg/m3の濃度範囲で検知し、カウントします。 検知チャンバへ引き込まれる粒子にレーザ光を照射すると、レーザ光を通過する粒子によって、光源が隠されて暗くなり、それが画像（光検出器）に記録されます。 その後、この画像を解析し、粒子の大きさと量を表す電気...

メーカー・取り扱い企業： 日本ハネウェル株式会社 本社

TOC計｜超純水対応オンラインTOC計 アキュラシリーズ

速く、正確に、柔軟に。TOC連続測定で水質変化を瞬時に捉え、プロセスの…

■主な特長 ・USP／EP対応 ・TOC 1ppb以下の超々純水に完全対応 ・完全なインライン連続測定が可能 ・特殊加工UV酸化チャンバの採用 ・計器内接液部からのコンタミ発生がない ・試薬校正及び測定時のサンプル径路が同一である ・連続測定で水質変化を瞬時に捉え、プロセスの汚染を防止します。 ・サンプルを導入し電源を入れ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ティ・アンド・シー・テクニカル 本社

【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介「RFマグネトロンスパッタ解析」…

プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデル...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析

Particle-PLUS解析事例紹介「GEC-CCP装置のプラズマ解…

代表的なドライエッチング手法のひとつである、CCP（容量結合プラズマ）エッチングに関する3Dでの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速にエッチング率などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理

Particle-PLUS解析事例紹介「CCPによるクリーニング処理」…

代表的なドライエッチング手法のひとつである、CCP（容量結合プラズマ）エッチングに関する解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速にエッチング率などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析

Particle-PLUS解析事例紹介「2周波CCPのプラズマ解析」シ…

CCP（容量結合プラズマ）装置のプラズマ解析に関する事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 電極が複数ある場合や重畳周波数を印加する場合に対しても 高速にシミュレーションを行うことができます ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ

プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、DCマグネトロンスパッ…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン

Particle-PLUS解析事例紹介「誘電体標的のRFマグネトロンス…

プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、 RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D

「Particle-PLUS」は 真空チャンバ内のプラズマ解析を得意と…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ

プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、RFマグネト…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 　高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社