高周波加熱型昇温脱離分析装置電子科学

マイナス温度からの水素分析！～1700℃の高温測定可能！

高周波加熱型昇温脱離分析装置IH-TDS1700は、超高真空中で試料を電磁誘導加熱することにより、試料から脱離する分子を四重極質量分析計（QMS）でリアルタイム観測する分析装置です。超高真空であるためバックグラウンドが低く高感度な測定が可能です。大気や発生ガスなどによる副反応の影響も大幅に抑えられているため理想的な状態で試料からの脱離分子を観測することができます。

加熱効率の良い金属サンプルの場合、1700℃以上の加熱が可能です。また、鋼鉄材料の水素脆化因子となる鋼中拡散性水素の低温TDS測定も可能です。

装置本体の制御はPLC(Programmable Logic Controller)により自動で行われ、インターフェースにタッチパネルを採用しております。

弊社ホームページ [IH-TDS1700]

基本情報高周波加熱型昇温脱離分析装置

・試料サイズ：直径20mm×長さ40mm
・試料形状：特に制約無し
・感度：脱離速度1x10^11Ar/s(at S/N=3)
・検出器：四重極質量分析計（QMS)
　　　　検出範囲　m/z1～199
　　　　質量分解能　(M/△M)≧M
・冷却トラップ(オプション)：液体窒素フロー式若しくはヘリウムガスクローズドサイクル式
　　　　※液体窒素フロー式の場合、液体窒素自動供給装置及び液体窒素容器を付加することも可(オプション)
・加熱方式：高周波誘導加熱
試料加熱チャンバ加熱源　高周波電源（周波数45kHz）
(分析チャンバ) 　※電波法により総務省通信局に対する高周波利用設備設置の許可申請が必要です
・温度検出器：熱電対（試料表面接触）　及び　放射温度計（180~2000℃）
・到達圧力(分析チャンバ)：1×10-6 Pa以下
加熱制御制御温度範囲　低温モード：－50～600℃，高温モード：100℃～1700℃

価格情報	お気軽にお問い合わせください。
納期	お問い合わせください ※お気軽にお問い合わせください。
型番・ブランド名	IH-TDS1700
用途／実績例	お気軽にお問い合わせください。