• 油水分離槽『OK式油水分離槽』 製品画像

    油水分離槽『OK式油水分離槽』

    PRより安全でより使いやすく!環境を見つめ、自然にも人にも配慮した油水分離…

    『OK式油水分離槽』は、独自の技術により油と水を分離し、自然環境に配慮した メンテナンスのしやすい油水分離槽です。 当製品はコンクリート製で荷重に強く、屋外設置に特に適します。 軽量・コンパクト、施工性が良くガソリンスタンド等で大変多くの実績・評価を頂いております。 また、分離方式は槽内に独自のトラップ構造を持つ自然分離浮上方式で省スペースで機能性に優れます。 【特長】 ■25t荷重鋳物蓋を使...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社オーイケ

  • 【NETIS登録】後付け可能!ビル用内窓『エミネントペアW』 製品画像

    【NETIS登録】後付け可能!ビル用内窓『エミネントペアW』

    PR【脱炭素ビルリノベ事業の補助対象製品】断熱・遮熱効果を高める、ビルを活…

    『エミネントペアW』は、耐久性、デザイン性に優れたワンタッチ構造の 樹脂フレームで既存の窓に簡単に取り付け可能なビル用内窓です。 熱還流率U値2.0W/m2-Kの高断熱ペアガラス「LOW-E3-A10-FL3」が輻射熱 を抑制。さらに特殊金属皮膜(銀)が太陽光反射し体感温度を和らげます。 また、既存のサッシフレーム(框)色と同類色にすることで後付けが 目立たず、自然な取付状態にな...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンシバ複層

  • 【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析

    Particle-PLUS解析事例紹介「2周波CCPのプラズマ解析」シ…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ

    プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、DCマグネトロンスパッ…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン 製品画像

    【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン

    Particle-PLUS解析事例紹介「誘電体標的のRFマグネトロンス…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】「Particle-PLUS」対抗ターゲット式スパッタ 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」対抗ターゲット式スパッタ

    Particle-PLUS解析事例紹介 "対面ターゲットを用いた…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】「Particle-PLUS」CCP装置の3次元解析 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」CCP装置の3次元解析

    Particle-PLUS解析事例紹介 "容量結合プラズマ(CC…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS 対向ターゲット式スパッタ 製品画像

    【事例】Particle-PLUS 対向ターゲット式スパッタ

    「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「対向ターゲット式ス…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】『Particle-PLUS』円筒型マグネトロン装置 製品画像

    【事例】『Particle-PLUS』円筒型マグネトロン装置

    長い円筒の内側に強い膜を成膜する方法のひとつである、円筒標的を用いたマ…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS 外部回路モデルを用いたCCP 製品画像

    【事例】Particle-PLUS 外部回路モデルを用いたCCP

    Particle-PLUS解析事例紹介 外部回路としてπ 型マッ…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D 製品画像

    【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D

    「Particle-PLUS」は 真空チャンバ内のプラズマ解析を得意と…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ

    プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、RFマグネト…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】『Particle-PLUS』CCPでのクリーニング処理 製品画像

    【事例】『Particle-PLUS』CCPでのクリーニング処理

    代表的なドライエッチング手法のひとつである CCP(容量結合プラズマ…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS 回転ターゲットのマグネトロン 製品画像

    【事例】Particle-PLUS 回転ターゲットのマグネトロン

    カットセルメッシュを用いた回転ターゲットのマグネトロンスパッタシミュレ…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】「Particle-PLUS」イオンビームの質量分析 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」イオンビームの質量分析

    Particle-PLUS解析事例紹介 "イオンビームの質量分析…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS ロールツーロールスパッタ 製品画像

    【事例】Particle-PLUS ロールツーロールスパッタ

    Particle-PLUS解析事例紹介 "回転ターゲットのマグネ…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS:3D対向ターゲット式パッタ 製品画像

    【事例】Particle-PLUS:3D対向ターゲット式パッタ

    Particle-PLUS解析事例紹介「対向ターゲット式パッタ(3D解…

    採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス   分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を   求めるもので、対向基板上へのフラックス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

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