株式会社技術情報協会
最終更新日:2023-07-24 12:38:41.0
【セミナー9/4】半導体洗浄技術と洗浄剤の設計、 パーティクル除去、ウエハ表面の評価はんどうたい
基本情報【セミナー9/4】半導体洗浄技術と洗浄剤の設計、 パーティクル除去、ウエハ表面の評価
■ 講 師
1.
反応装置工学ラボラトリ 代表 博士(工学)羽深 等 氏
2.
三菱ケミカル(株) Science&Innovation Center 主席研究員 竹下 寛 氏
3. (株)SCREENセミコンダクターソリューションズ 洗浄開発統轄部 開発戦略部 開発戦略課 プロセス戦略リーダー 岩畑 翔太 氏
■ 開催要領
日 時 :
2023年9月4日(月) 10:30~16:30
会 場 : Zoomを利用したLive配信 ※会場での講義は行いません
Live配信セミナーの接続確認・受講手順は「こちら」をご確認下さい。
聴講料 :
1名につき60,500円(消費税込、資料付)
〔1社2名以上同時申込の場合のみ1名につき55,000円〕
〔大学、公的機関、医療機関の方には割引制度があります。詳しくは上部の「アカデミック価格」をご覧下さい〕
※定員になり次第、お申込みは締切となります。
【セミナー9/4】半導体洗浄技術と洗浄剤の設計、 パーティクル除
■ 講 師
1.
反応装置工学ラボラトリ 代表 博士(工学)羽深 等 氏
2.
三菱ケミカル(株) Science&Innovation Center 主席研究員 竹下 寛 氏
3. (株)SCREENセミコンダクターソリューションズ 洗浄開発統轄部 開発戦略部 開発戦略課 プロセス戦略リーダー 岩畑 翔太 氏
■ 開催要領
日 時 :
2023年9月4日(月) 10:30~16:30
会 場 : Zoomを利用したLive配信 ※会場での講義は行いません
Live配信セミナーの接続確認・受講手順は「こちら」をご確認下さい。
聴講料 :
1名につき60,500円(消費税込、資料付)
〔1社2名以上同時申込の場合のみ1名につき55,000円〕
〔大学、公的機関、医療機関の方には割引制度があります。詳しくは上部の「アカデミック価格」をご覧下さい〕
※定員になり次第、お申込みは締切となります。 (詳細を見る)
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