カタログ発行日：2022/12/16

研摩フィルム/CMPスラリー

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基本情報研摩フィルム/CMPスラリー

高機能研磨材料のご紹介です！

●研磨フィルム
精密研磨フィルムは、半導体デバイス、液晶パネル、磁気ヘッドなどの電子部品の精密研磨に広く使われています。微粒子のダイヤモンド、アルミナ（WA）、シリコンカーバイド（GC）などの砥粒を、最適な研磨特性を発揮できるバインダー樹脂に分散してPETフィルムにコーティングし、テープやシート状に加工します。
塗料製造から製品化まで極めて厳しい品質管理を行っております。長年にわたって培ってきた分散技術・コーティング技術を応用し、最先端のエレクトロニクス製品のプロセスに必要不可欠な高性能精密研磨フィルムをご提供いたします。

●CMPスラリー
CMPスラリーを開発・製造しております。CMPとはChemical Mechanical Polishingの略で、化学的に溶解させながら機械的な除去、研磨を行います。付与する化学的作用は削りたい物質の化学的な性質に依存します。
半導体銅配線用CMPスラリーは、先端デバイスの銅配線用として量産しており、大手エレクトロニクスメーカー様からパートナーとしての認定をいただくなど、高い信頼を得ている製品です。
最先端デバイス用CMPスラリーの開発も進めています。

研磨フィルム

精密研磨フィルムは、半導体デバイス、液晶パネル、磁気ヘッドなどの電子部品の精密研磨に広く使われています。微粒子のダイヤモンド、アルミナ（WA）、シリコンカーバイド（GC）などの砥粒を、最適な研磨特性を発揮できるバインダー樹脂に分散してPETフィルムにコーティングし、テープやシート状に加工します。
塗料製造から製品化まで極めて厳しい品質管理を行っています。

長年にわたって培ってきた分散技術・コーティング技術を応用し、最先端のエレクトロニクス製品のプロセスに必要不可欠な高性能精密研磨フィルムをご提供いたします。

◎より詳しい掲載内容につきましては、直接お問い合わせください。

【当社は塗料製造／コーティング製造の受託を行っております】
製造でのお困りごとがありましたら、ぜひお気軽にお問い合わせください。
（詳細を見る）

CMPスラリー(化学的機械的液体研磨剤)

当社はCMPスラリーを開発・製造しております。CMPとはChemical Mechanical Polishingの略で、化学的に溶解させながら機械的な除去、研磨を行います。付与する化学的作用は削りたい物質の化学的な性質に依存します。

半導体銅配線用CMPスラリーは、先端デバイスの銅配線用として量産しており、大手エレクトロニクスメーカー様からパートナーとしての認定をいただくなど、高い信頼を得ている製品です。
また、最先端デバイス用CMPスラリーの開発も進めています。

【当社は各種スラリー／塗料の製造受託を行っております】
　製造でのお困りごとがありましたら、ぜひお気軽にお問い合わせください。（詳細を見る）

取扱会社研摩フィルム/CMPスラリー

株式会社トッパンインフォメディア

●ラベル事業多様な素材や形状に対して、印刷やラミネート、コーティングやスリット、加飾などの多彩な「印刷ソリューション技術」をコア技術に、情報マネジメントのキーとなる「セキュリティ技術」やSDGsへの貢献を果たす「環境配慮」を組み合わせることで、付加価値の高いラベル媒体をご提供します。また、ラベルメーカーとして培ってきた「ラベリング技術」をコア技術に、工場などのラインで稼働するロボットシステムや認証システム機器の開発、 IoT機器の開発・製造で、生産現場の自動化や省人化に貢献します。 ●インダストリアル事業磁気・ICメディアの設計で培った材料の特長を活かす「組成設計技術」、これに長年磨き上げた攪拌・分散、薄膜塗布、配線形成などの「コンバーティング技術」を組み合わせることで、化学を基礎とした素材提供、機能性製品の開発により、お客さまの製品・部材の新たな可能性を拓きます。また、情報処理機器で培った「機器設計技術」や「R/W設計技術」をコア技術に、媒体の価値を引き出す機器の開発・製造で、お客さまの多様なご要望に応えていきます。

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