ビーエルテック株式会社
最終更新日：2021-07-20 19:37:39.0
「半導体素材、タンタル、ニオブ、鉄鋼等における、連続流れ分析装置（STAA-3）を用いた低濃度シリカの分離分析の検討」
基本情報「半導体素材、タンタル、ニオブ、鉄鋼等における、連続流れ分析装置（STAA-3）を用いた低濃度シリカの分離分析の検討」
タンタル、ニオブ、鉄鋼、半導体素材等における、連続流れ分析装置(STAA-3)を用いた低濃度シリカの分離分析の検討
シリカはICP 発光、ICP-MS 等で測定を行うにあたり、石英製プラズマトーチ等からのシリカの汚染や質量干渉のため、低濃度付近を正確に測定することができない。また、分析におけるベースラインのバックグラウンドが各サンプルの種類によって異なるため、マトリクスマッチングや標準添加法が必須となる。また、鋼中等に含まれるシリカは重量法で行う必要があるが、煩雑な分析手法が必要となる。
そのため、シリカを気体として分離、吸収液に捕集して測定を行う分析装置を開発し、タンタル、ニオブ、鉄鋼等に含まれるシリカの高感度でかつ、簡易、安全な分析方法の検討を行った。
連続流れ分析装置(STAA-3)を用いた低濃度シリカの分離分析
電池や半導体素材などにおいて、不純物としてのシリカは、
製品の性能低下の原因となることがあり、分離および分析が必要です。
鋼中などに一定量以上含まれるシリカは、JISに規定される重量法により
分析できますが、方法が煩雑で精度面でも課題がありました。
そこで当社では、サンプルに含まれるシリカを気体として分離し、
吸収液に捕集してモリブデンブルーで測定する方法を連続流れ分析法にて考案。
本資料では、「半導体素材、タンタル、ニオブ、鉄鋼等における、
連続流れ分析装置（STAA-3）を用いた低濃度シリカの分離分析の検討」と題して
その検討結果をわかりやすくご紹介しています。
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