成膜装置向け解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』製品カタログウェーブフロント

基本情報成膜装置向け解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

DSMC-Neutralsは低圧条件のガス流れの解析が可能な希薄気体ソフトウェアです。並列を用いて短時間で計算結果を出せます。

DSMC-Neutrals はモンテカルロ直接法 ( DSMC- Direct Simulation Monte Carlo ) を用いた3次元希薄気体解析ソフトウェアです。
非構造メッシュを用いることにより、複雑な形状のシミュレーションが可能です。
化学反応の計算も可能であり、
・真空チャンバー内の希薄なガス流れ
・化学蒸着 ( CVD - Chemical Vapor Deposition )
・有機EL ( OLED - Organic Light Emitting Diode )
・分子線エピタキシー ( MBE - Molecular Beam Epitaxy )
・CVD のような化学反応を含む成膜
などの
半導体製造における薄膜生成のシミュレーションにも適しています。
アレニウス形式の反応データから化学反応を計算することが出来ます。
解離・再結合・分子（原子）交換反応の計算も可能です。
GUI 上で，複数の反応式を設定することも可能です。

半導体関連装置向け解析シミュレーションソフト

当社では、半導体関連装置向けに特化した解析ソフトを取扱っています。
希薄流体解析ソフト、プラズマ解析ソフトをラインアップし、
有機ELやマグネトロンスパッタのシミュレーションに活躍。
お客様のニーズに合わせた対応も可能です。

【ラインナップ】
《希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』》
■非構造メッシュに対応しているため、複雑な形状の計算に対応
■装置内全体のガス流れのシミュレーションが可能

《プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』》
■低圧のプラズマシミュレーションが可能
■プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに

この2つのシステムで、半導体製造における薄膜生成、スパッタリング、
プラズマエッチングなどの様々なシミュレーションに対応可能です。

※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。（詳細を見る）

【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D

『Particle-PLUS』は
プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
シミュレーションソフトウェアです。

・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。（詳細を見る）

【事例】Particle-PLUS AC マグネトロンスパッタ

『Particle-PLUS』は
プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
シミュレーションソフトウェアです。

・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。（詳細を見る）

【事例】Particle-PLUS 対向ターゲット式スパッタ

『Particle-PLUS』は
プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
シミュレーションソフトウェアです。

・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。（詳細を見る）

【事例】Particle-PLUS 2周波CCP

『Particle-PLUS』は
プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
シミュレーションソフトウェアです。

・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。（詳細を見る）

【事例】Particle-PLUS 外部回路モデルを用いたCCP

『Particle-PLUS』は
プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
シミュレーションソフトウェアです。

・低圧プラズマ解析を得意とします
・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで
装置全体のシミュレーションを行う必要なく、高速に結果を得ることができます。
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。（詳細を見る）

バルブやポンプの熱流体解析を承ります！

弊社では受託解析(委託解析)やコンサルティングを事業の柱の一つとして展開しております。

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