• 微細加工用ポジ型フォトレジスト電着処理剤『ハニレジストAP』 製品画像

    微細加工用ポジ型フォトレジスト電着処理剤『ハニレジストAP』

    電子部品などの微細加工に適したフォトレジストタイプの電着処理剤!

    『ハニレジストAP』は、ハニー化成の長年に亘り培われてきた、当社が世界に先駆けて開発したアルミ建材用電着塗装技術(電着樹脂合成技術、電着液管理技術、電着プロセス技術)を基本とし、開発された微細加工用ポジ型レジスト電着処理剤です。 プリント基板やCOF・TCPへの Reel to Reelによる高速処理(通電時間10秒で 膜形成が可能)・微細加工が可能です。 スルーホール内の処理能力に...

    メーカー・取り扱い企業: ハニー化成株式会社

  • 超親水性反射防止(AR)処理剤『ハニセラン PI-400AR』 製品画像

    超親水性反射防止(AR)処理剤『ハニセラン PI-400AR』

    反射防止性と親水性に優れたスプレーAR処理剤【技術資料進呈中】

    『ハニセラン PI-400AR』は超親水性を併せ持つAR(アンチリフレクション)スプレーコート剤です。 特長 ■1液型反射防止コーティング剤 ■ガラス基材への優れた密着性 ■シリカ由来の低屈折率塗膜を形成可能 ■膜厚100nmオーダーで平滑な連続膜を形成可能 ■スパッタリング方式よりも低コスト ご依頼いただければ塗布サンプルを作製させて頂きます。 用途:各種ディスプレイ...

    メーカー・取り扱い企業: ハニー化成株式会社

  • ネガ型アニオン電着フォトレジスト(開発品) 製品画像

    ネガ型アニオン電着フォトレジスト(開発品)

    ネガ型アニオン

    アニオン電着のネガ型フォトレジストですので現像液・剥膜液はアルカリ性になります。 現像液・剥膜液は専用品ではありません。 ...電着中和剤:アミン 露光:ネガ型 現像:炭酸Na水溶液 剥離:水酸化Na ...

    メーカー・取り扱い企業: ハニー化成株式会社

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