• 【ハイパワー】【Bluetooth対応】WED-NO-301 製品画像

    【ハイパワー】【Bluetooth対応】WED-NO-301

    PR《増波に対応》「低価格」「高品質」の5Wトランシーバー

    ソリューション提案致します!業務効率化に繋がります! WED-NO-301は、弊社オリジナルのデジタル簡易無線機(登録局)です。 無線機の国内主要メーカー『アイコム』との共同開発により完成しました。 「国産・低価格・高品質」をコンセプトとし、シンプルで洗練されたデザインとなっております。 ■増波に対応(35ch → 97ch) チャンネル不足による混信から解放され、快適に運用できます。 ■安...

    メーカー・取り扱い企業: ウェッジ株式会社

  • 【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ

    Particle-PLUS解析事例紹介「RFマグネトロンスパッタ解析」…

    プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデル...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析 製品画像

    事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析

    Particle-PLUS解析事例紹介「GEC-CCP装置のプラズマ解…

    代表的なドライエッチング手法のひとつである、CCP(容量結合プラズマ)エッチングに関する3Dでの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速にエッチング率などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理 製品画像

    【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理

    Particle-PLUS解析事例紹介「CCPによるクリーニング処理」…

    代表的なドライエッチング手法のひとつである、CCP(容量結合プラズマ)エッチングに関する解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速にエッチング率などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析

    Particle-PLUS解析事例紹介「2周波CCPのプラズマ解析」シ…

    CCP(容量結合プラズマ)装置のプラズマ解析に関する事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 電極が複数ある場合や重畳周波数を印加する場合に対しても 高速にシミュレーションを行うことができます ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ

    プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、DCマグネトロンスパッ…

    『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン 製品画像

    【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン

    Particle-PLUS解析事例紹介「誘電体標的のRFマグネトロンス…

    プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、 RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D 製品画像

    【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D

    「Particle-PLUS」は 真空チャンバ内のプラズマ解析を得意と…

    『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ

    プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、RFマグネト…

    『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、  高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレー...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

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