低分子シロキサン定量分析

低分子シロキサンの確認手法！どの程度の発生量であるかなども分析可能

シリコーン製品から発生する低分子シロキサンが電子部品の接点周囲に 存在すると、電気火花の熱により絶縁物である二酸化ケイ素を生じ、 接点障害を引き起こす事が知られています。 こちらでは、低分子シロキサンの確認手法としてHS-GCMSによる アウトガス定量分析をご紹介。 HS-GCMS分析は、使用している電子部品の周辺に低分子シロキサンを 発生させるような部材が無いか、またどの程度の発生...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイテス