光進電気工業株式会社 高周波超音波洗浄処理システム
- 最終更新日:2019-10-03 15:52:11.0
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最小0.1μmからのパーティクルを除去!半導体ウェハなどの洗浄に
当製品は、微細凹凸部のダストを超音波で除去する
高周波超音波洗浄処理システムです。
半導体ウェハやマスクなどの洗浄に使用いただけます。
ノズル噴射式、洗浄槽内投込み式、その他の洗浄処理システムを
ラインアップしています。
【特長】
■微細凹凸部のダストを超音波で除去
■400kHz~5MHzのトランスデューサを備える
■最小0.1μmからのパーティクルを除去
■ノズル噴射式、洗浄槽内投込み式などをラインアップ
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報高周波超音波洗浄処理システム
【洗浄対象例】
■半導体ウェハ
■マスク
■LCD
■サブストレート
■MEMS
■太陽光関連
■微細構造部品
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
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