フォトプレシジョン株式会社 高アスペクト比レジスト
- 最終更新日：2020-11-12 17:41:49.0
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高アスペクト比レジスト
フォトファブリケーションを中心的技術として、
マイクロエレクトロニクス製品や光学製品をはじめとする様々な分野での
試作・開発に貢献するフォトプレシジョン社
『高アスペクト比レジスト』のご案内です。
平面のレジストパターンに高さを与えることが実現！
■□■特徴■□■
■レジストパターンはエッチング工程で、メタル薄膜などを
エッチング液から守る膜として使用されている
■高精度のメタルパターンを実現するために、高解像度で
密着性・溶融性の高いフォトレジストが研究開発されている
■その他詳細については、カタログダウンロード
もしくはお問い合わせ下さい。
基本情報高アスペクト比レジスト
フォトファブリケーションを中心的技術として、
マイクロエレクトロニクス製品や光学製品をはじめとする様々な分野での
試作・開発に貢献するフォトプレシジョン社
『高アスペクト比レジスト』のご案内です。
平面のレジストパターンに高さを与えることが実現！
■□■特徴■□■
■レジストパターンはエッチング工程で、メタル薄膜などを
エッチング液から守る膜として使用されている
■高精度のメタルパターンを実現するために、高解像度で
密着性・溶融性の高いフォトレジストが研究開発されている
■その他詳細については、カタログダウンロード
もしくはお問い合わせ下さい。
| 価格情報 | - |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ■□■用途■□■ ■流路 ■スタンパー ■セル隔壁 など |
カタログ高アスペクト比レジスト
取扱企業高アスペクト比レジスト
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高度な技術と豊富な経験に基づいたフォトエッチングの一貫加工。 独自の受注生産システムにより多種多様なニーズにお応え致しております。
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